東北学院ハイテクリサーチセンター

分子線エピタキシー装置

　本装置は、分子線エピタキシー装置（MBE: Molecular Beam Epitaxy）装置と呼ばれ、宇宙環境に匹敵する超高真空下において10種類までの元素を原子の厚さで高精度に制御し作製することが可能であり、新しい人工構造物質を創製するために有用である。成長中の薄膜の構造評価、１原子層制御のために反射高速電子線回折（RHEED: Reflection High Energy Electron Diffraction）装置、また低温のクヌーセンセル（K-セル）が最大１０本搭載可能である。本装置は半導体の生産機として用いられていた経緯が有るが、使いこなすには忍耐力と継続力と夢が必要である。